Detalles MARC
000 -CABECERA |
Campo de control de longitud fija |
04069nam a22007214a 4500 |
001 - NÚMERO DE CONTROL |
Número de control |
CUUTN000001 |
003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL |
Identificador del número de control |
AR-CuUTN |
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN |
Fecha y hora de la última transacción |
20250521221550.0 |
007 - PHYSICAL CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL FIXED FIELD--GENERAL INFORMATION |
Campo fijo de descripción física |
ta |
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL |
Códigos de información de longitud fija |
191210s2001 us addof 001 0 eng d |
020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO |
ISBN |
087170692X |
040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN |
Centro catalogador de origen |
AR-CuUTN |
Lengua de catalogación |
spa |
Centro transcriptor |
AR-CuUTN |
Normas de descripción |
aacr2 |
-- |
isbd |
041 0# - CÓDIGO DE LENGUA |
Código de lengua del texto |
eng |
080 0# - NÚMERO DE LA CLASIFICACIÓN DECIMAL UNIVERSAL |
Clasificación Decimal Universal |
621.793/.795 |
Edición de la CDU |
2000 |
245 00 - MENCIÓN DE TÍTULO |
Título |
Chemical vapor deposition / |
Mención de responsabilidad |
edited by Jong-Hee Park, T. S. Sudarshan. |
250 ## - MENCIÓN DE EDICIÓN |
Mención de edición |
1a ed. |
260 ## - PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, ETC. |
Lugar de publicación, distribución, etc. |
United States of America : |
Nombre del editor, distribuidor, etc. |
ASM International, |
Fecha de publicación, distribución, etc. |
2001. |
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA |
Extensión |
vii; 481 p. : |
Otras características físicas |
il., gráf., fot., tablas ; |
Dimensiones |
26 cm |
336 ## - TIPO DE CONTENIDO |
Fuente |
rdacontent |
Término de tipo de contenido |
texto |
Código de tipo de contenido |
txt |
337 ## - TIPO DE MEDIO |
Fuente |
rdamedia |
Nombre del tipo de medio |
sin mediación |
Código del tipo de medio |
n |
338 ## - TIPO DE SOPORTE |
Fuente |
rdacarrier |
Nombre del tipo de soporte |
volumen |
Código del tipo de soporte |
nc |
490 0# - MENCIÓN DE SERIE |
Mención de serie |
Surface Engineering Series ; |
Designación de volumen o secuencia |
v. 2. |
500 ## - NOTA GENERAL |
Nota general |
Contenido: p. v-vi. |
|
Nota general |
Índice temático: p. 465-480. |
|
Nota general |
Índice de autores: p. 481. |
504 ## - NOTA DE BIBLIOGRAFÍA, ETC. |
Nota de bibliografía, etc. |
Bibliografía al finalizar cada capítulo. |
505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO |
Nota de contenido con formato |
Chap. 1. Introduction to chemical vapor deposition (CVD). |
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Nota de contenido con formato |
Cahp. 2. Basic principles of CVD Thermodynamics and kintecs. |
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Nota de contenido con formato |
Chap. 3. Stresses and mechanical stability of CVD Thin Films. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 4. Combustion chemical vapor deposition (CCVD). |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 5. Polarized electrochemical vapor deposition. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 6. Chemical vapor infiltration: optimization of processing conditions. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 7. Metal-organic chemical vapor deposition of high dielectric (Ba, Sr) TiO3. Thin films for dynamic random access memory applications. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 8. Chemical vapor deposition of polymers: principles, materials, and applications. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 9. CVD of metals: the case of nickel. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 10. CVD Diamond, diamond-like carbon, and carbonitride coatings. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 11. CVD diamond films in tribological applications. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 12. CVD films for electrical insulation. |
|
Nota de contenido con formato |
Chap. 13. CVD films for corrosion protection coatings. |
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Nota de contenido con formato |
Chap. 14. Heat treatment of CVD-coated tool steels. |
520 3# - SUMARIO, ETC. |
Sumario, etc. |
La deposición química de vapores (CVD) se utiliza generalmente en la tecnología de procesamiento de materiales. La mayoría de las aplicaciones implica la aplicación de recubrimientos sólidos de película delgada a superficies, pero también se utiliza para producir materiales a granel y polvos de alta pureza, así como para fabricar compuestos.<br/>El propósito de este libro de tecnología de CVD es proveer información práctica de referencia, guías prácticas e información de aplicación sobre importantes tecnologías de ingeniería de superficies, para el diseño, desarrollo y fabricación. Este libro intenta ser un manual de referencia general para principiantes y experimentados en el uso de procesos con CVD. <br/> |
521 ## - NOTA DE PÚBLICO DESTINATARIO |
Nota de público destinatario |
Para ingenieros en ejercicio, tecnólogos de investigación y desarrollo, estudiantes de posgrado y pregrado avanzado. |
546 ## - NOTA DE IDIOMA |
Nota de lengua |
Obra en idioma inglés. |
653 1# - TÉRMINO DE INDIZACIÓN--NO CONTROLADO |
Término no controlado |
Ingeniería de superficies |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor-termodinámica |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor-cinética |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor-tensiones |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor por combustión |
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Término no controlado |
Infiltración de vapor químico |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor de metal orgánico |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor de polímeros |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor de metales |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor de diamantes |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor para aplicaciones tribológicas |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor para aislante eléctrico |
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Término no controlado |
Deposición química de vapor-protección corrosión |
|
Término no controlado |
Deposición química de vapor-tratamiento térmico de aceros |
700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE PERSONA |
9 (RLIN) |
6200 |
Nombre personal |
Park, Jong-Hee |
Fechas asociadas al nombre |
1951- |
Término indicativo de función |
editor |
|
9 (RLIN) |
7913 |
Nombre personal |
Sudarshan, T. S. |
Fechas asociadas al nombre |
1955- |
Término indicativo de función |
editor |
942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA) |
Tipo de ítem Koha |
Libros |
Esquema de clasificación |
Clasificación Decimal Universal |
945 ## - PROCESAMIENTO DE INFORMACIÓN LOCAL (OCLC) |
Bibliotecaria/o |
SMPH |