Catalogo Biblioteca UTN FRCU

Chemical vapor deposition / (Registro nro. 3070)

Detalles MARC
000 -CABECERA
Campo de control de longitud fija 04069nam a22007214a 4500
001 - NÚMERO DE CONTROL
Número de control CUUTN000001
003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL
Identificador del número de control AR-CuUTN
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN
Fecha y hora de la última transacción 20250521221550.0
007 - PHYSICAL CAMPO FIJO DE DESCRIPCIÓN FÍSICA--INFORMACIÓN GENERAL FIXED FIELD--GENERAL INFORMATION
Campo fijo de descripción física ta
008 - DATOS DE LONGITUD FIJA--INFORMACIÓN GENERAL
Códigos de información de longitud fija 191210s2001 us addof 001 0 eng d
020 ## - NÚMERO INTERNACIONAL ESTÁNDAR DEL LIBRO
ISBN 087170692X
040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN
Centro catalogador de origen AR-CuUTN
Lengua de catalogación spa
Centro transcriptor AR-CuUTN
Normas de descripción aacr2
-- isbd
041 0# - CÓDIGO DE LENGUA
Código de lengua del texto eng
080 0# - NÚMERO DE LA CLASIFICACIÓN DECIMAL UNIVERSAL
Clasificación Decimal Universal 621.793/.795
Edición de la CDU 2000
245 00 - MENCIÓN DE TÍTULO
Título Chemical vapor deposition /
Mención de responsabilidad edited by Jong-Hee Park, T. S. Sudarshan.
250 ## - MENCIÓN DE EDICIÓN
Mención de edición 1a ed.
260 ## - PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, ETC.
Lugar de publicación, distribución, etc. United States of America :
Nombre del editor, distribuidor, etc. ASM International,
Fecha de publicación, distribución, etc. 2001.
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA
Extensión vii; 481 p. :
Otras características físicas il., gráf., fot., tablas ;
Dimensiones 26 cm
336 ## - TIPO DE CONTENIDO
Fuente rdacontent
Término de tipo de contenido texto
Código de tipo de contenido txt
337 ## - TIPO DE MEDIO
Fuente rdamedia
Nombre del tipo de medio sin mediación
Código del tipo de medio n
338 ## - TIPO DE SOPORTE
Fuente rdacarrier
Nombre del tipo de soporte volumen
Código del tipo de soporte nc
490 0# - MENCIÓN DE SERIE
Mención de serie Surface Engineering Series ;
Designación de volumen o secuencia v. 2.
500 ## - NOTA GENERAL
Nota general Contenido: p. v-vi.
Nota general Índice temático: p. 465-480.
Nota general Índice de autores: p. 481.
504 ## - NOTA DE BIBLIOGRAFÍA, ETC.
Nota de bibliografía, etc. Bibliografía al finalizar cada capítulo.
505 0# - NOTA DE CONTENIDO CON FORMATO
Nota de contenido con formato Chap. 1. Introduction to chemical vapor deposition (CVD).
Nota de contenido con formato Cahp. 2. Basic principles of CVD Thermodynamics and kintecs.
Nota de contenido con formato Chap. 3. Stresses and mechanical stability of CVD Thin Films.
Nota de contenido con formato Chap. 4. Combustion chemical vapor deposition (CCVD).
Nota de contenido con formato Chap. 5. Polarized electrochemical vapor deposition.
Nota de contenido con formato Chap. 6. Chemical vapor infiltration: optimization of processing conditions.
Nota de contenido con formato Chap. 7. Metal-organic chemical vapor deposition of high dielectric (Ba, Sr) TiO3. Thin films for dynamic random access memory applications.
Nota de contenido con formato Chap. 8. Chemical vapor deposition of polymers: principles, materials, and applications.
Nota de contenido con formato Chap. 9. CVD of metals: the case of nickel.
Nota de contenido con formato Chap. 10. CVD Diamond, diamond-like carbon, and carbonitride coatings.
Nota de contenido con formato Chap. 11. CVD diamond films in tribological applications.
Nota de contenido con formato Chap. 12. CVD films for electrical insulation.
Nota de contenido con formato Chap. 13. CVD films for corrosion protection coatings.
Nota de contenido con formato Chap. 14. Heat treatment of CVD-coated tool steels.
520 3# - SUMARIO, ETC.
Sumario, etc. La deposición química de vapores (CVD) se utiliza generalmente en la tecnología de procesamiento de materiales. La mayoría de las aplicaciones implica la aplicación de recubrimientos sólidos de película delgada a superficies, pero también se utiliza para producir materiales a granel y polvos de alta pureza, así como para fabricar compuestos.<br/>El propósito de este libro de tecnología de CVD es proveer información práctica de referencia, guías prácticas e información de aplicación sobre importantes tecnologías de ingeniería de superficies, para el diseño, desarrollo y fabricación. Este libro intenta ser un manual de referencia general para principiantes y experimentados en el uso de procesos con CVD. <br/>
521 ## - NOTA DE PÚBLICO DESTINATARIO
Nota de público destinatario Para ingenieros en ejercicio, tecnólogos de investigación y desarrollo, estudiantes de posgrado y pregrado avanzado.
546 ## - NOTA DE IDIOMA
Nota de lengua Obra en idioma inglés.
653 1# - TÉRMINO DE INDIZACIÓN--NO CONTROLADO
Término no controlado Ingeniería de superficies
Término no controlado Deposición química de vapor
Término no controlado Deposición química de vapor-termodinámica
Término no controlado Deposición química de vapor-cinética
Término no controlado Deposición química de vapor-tensiones
Término no controlado Deposición química de vapor por combustión
Término no controlado Infiltración de vapor químico
Término no controlado Deposición química de vapor de metal orgánico
Término no controlado Deposición química de vapor de polímeros
Término no controlado Deposición química de vapor de metales
Término no controlado Deposición química de vapor de diamantes
Término no controlado Deposición química de vapor para aplicaciones tribológicas
Término no controlado Deposición química de vapor para aislante eléctrico
Término no controlado Deposición química de vapor-protección corrosión
Término no controlado Deposición química de vapor-tratamiento térmico de aceros
700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL--NOMBRE DE PERSONA
9 (RLIN) 6200
Nombre personal Park, Jong-Hee
Fechas asociadas al nombre 1951-
Término indicativo de función editor
9 (RLIN) 7913
Nombre personal Sudarshan, T. S.
Fechas asociadas al nombre 1955-
Término indicativo de función editor
942 ## - ELEMENTOS DE PUNTO DE ACCESO ADICIONAL (KOHA)
Tipo de ítem Koha Libros
Esquema de clasificación Clasificación Decimal Universal
945 ## - PROCESAMIENTO DE INFORMACIÓN LOCAL (OCLC)
Bibliotecaria/o SMPH
Existencias
Estado Perdido Esquema de Clasificación Dañado Restricciones de uso No se Presta Tipo de colección Biblioteca propietaria Localización actual Ubicación Fecha de adquisición Origen de la adquisición Número de inventario Total préstamos ST completa de Koha Código de barras Visto por última vez Tipo de ítem Koha
    Clasificación Decimal Universal   Sin Restricciones   Grupo de Investigación Facultad Regional Concepción del Uruguay Facultad Regional Concepción del Uruguay GRUPO DE INVESTIGACIÓN/GIS 17/06/2022 Compra 11632   621.793/.795 ; C 33 ; 11632 11632 10/12/2019 Libros
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