TY  - BOOK
AU  - Park,Jong-Hee
AU  - Sudarshan,T.S.
TI  - Chemical vapor deposition / 
T2  - Surface Engineering Series
SN  - 087170692X
PY  - 2001///
CY  - United States of America
PB  - ASM International
KW  - Ingeniería de superficies
KW  - Deposición química de vapor
KW  - Deposición química de vapor-termodinámica
KW  - Deposición química de vapor-cinética
KW  - Deposición química de vapor-tensiones
KW  - Deposición química de vapor por combustión
KW  - Infiltración de vapor químico
KW  - Deposición química de vapor de metal orgánico
KW  - Deposición química de vapor de polímeros
KW  - Deposición química de vapor de metales
KW  - Deposición química de vapor de diamantes
KW  - Deposición química de vapor para aplicaciones tribológicas
KW  - Deposición química de vapor para aislante eléctrico
KW  - Deposición química de vapor-protección corrosión
KW  - Deposición química de vapor-tratamiento térmico de aceros
N1  - Contenido: p. v-vi; Índice temático: p. 465-480; Índice de autores: p. 481; Bibliografía al finalizar cada capítulo; Chap. 1. Introduction to chemical vapor deposition (CVD); Cahp. 2. Basic principles of CVD Thermodynamics and kintecs; Chap. 3. Stresses and mechanical stability of CVD Thin Films; Chap. 4. Combustion chemical vapor deposition (CCVD); Chap. 5. Polarized electrochemical vapor deposition; Chap. 6. Chemical vapor infiltration: optimization of processing conditions; Chap. 7. Metal-organic chemical vapor deposition of high dielectric (Ba, Sr) TiO3. Thin films for dynamic random access memory applications; Chap. 8. Chemical vapor deposition of polymers: principles, materials, and applications; Chap. 9. CVD of metals: the case of nickel; Chap. 10. CVD Diamond, diamond-like carbon, and carbonitride coatings; Chap. 11. CVD diamond films in tribological applications; Chap. 12. CVD films for electrical insulation; Chap. 13. CVD films for corrosion protection coatings; Chap. 14. Heat treatment of CVD-coated tool steels; Para ingenieros en ejercicio, tecnólogos de investigación y desarrollo, estudiantes de posgrado y pregrado avanzado
N2  - La deposición química de vapores (CVD) se utiliza generalmente en la tecnología de procesamiento de materiales. La mayoría de las aplicaciones implica la aplicación de recubrimientos sólidos de película delgada a superficies, pero también se utiliza para producir materiales a granel y polvos de alta pureza, así como para fabricar compuestos.
El propósito de este libro de tecnología de CVD es proveer información práctica  de referencia, guías prácticas e información de aplicación sobre importantes tecnologías de ingeniería de superficies, para el diseño, desarrollo y fabricación. Este libro intenta ser un manual de referencia general para principiantes y experimentados en el uso de procesos con CVD.

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