Chemical vapor deposition / edited by Jong-Hee Park, T. S. Sudarshan.
Tipo de material:
TextoIdioma: Inglés Series Surface Engineering Series ; v. 2.Detalles de publicación: United States of America : ASM International, 2001.Edición: 1a edDescripción: vii; 481 p. : il., gráf., fot., tablas ; 26 cmTipo de contenido: - texto
- sin mediación
- volumen
- 087170692X
- Ingeniería de superficies
- Deposición química de vapor
- Deposición química de vapor-termodinámica
- Deposición química de vapor-cinética
- Deposición química de vapor-tensiones
- Deposición química de vapor por combustión
- Infiltración de vapor químico
- Deposición química de vapor de metal orgánico
- Deposición química de vapor de polímeros
- Deposición química de vapor de metales
- Deposición química de vapor de diamantes
- Deposición química de vapor para aplicaciones tribológicas
- Deposición química de vapor para aislante eléctrico
- Deposición química de vapor-protección corrosión
- Deposición química de vapor-tratamiento térmico de aceros
| Tipo de ítem | Biblioteca actual | Colección | Ubicación en estantería | Signatura | Estado | Fecha de vencimiento | Código de barras |
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Libros
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Facultad Regional Concepción del Uruguay | Grupo de Investigación | GRUPO DE INVESTIGACIÓN/GIS | 621.793/.795 ; C 33 ; 11632 (Navegar estantería(Abre debajo)) | Disponible (Sin Restricciones) | 11632 |
Contenido: p. v-vi.
Índice temático: p. 465-480.
Índice de autores: p. 481.
Bibliografía al finalizar cada capítulo.
Chap. 1. Introduction to chemical vapor deposition (CVD).
Cahp. 2. Basic principles of CVD Thermodynamics and kintecs.
Chap. 3. Stresses and mechanical stability of CVD Thin Films.
Chap. 4. Combustion chemical vapor deposition (CCVD).
Chap. 5. Polarized electrochemical vapor deposition.
Chap. 6. Chemical vapor infiltration: optimization of processing conditions.
Chap. 7. Metal-organic chemical vapor deposition of high dielectric (Ba, Sr) TiO3. Thin films for dynamic random access memory applications.
Chap. 8. Chemical vapor deposition of polymers: principles, materials, and applications.
Chap. 9. CVD of metals: the case of nickel.
Chap. 10. CVD Diamond, diamond-like carbon, and carbonitride coatings.
Chap. 11. CVD diamond films in tribological applications.
Chap. 12. CVD films for electrical insulation.
Chap. 13. CVD films for corrosion protection coatings.
Chap. 14. Heat treatment of CVD-coated tool steels.
La deposición química de vapores (CVD) se utiliza generalmente en la tecnología de procesamiento de materiales. La mayoría de las aplicaciones implica la aplicación de recubrimientos sólidos de película delgada a superficies, pero también se utiliza para producir materiales a granel y polvos de alta pureza, así como para fabricar compuestos.
El propósito de este libro de tecnología de CVD es proveer información práctica de referencia, guías prácticas e información de aplicación sobre importantes tecnologías de ingeniería de superficies, para el diseño, desarrollo y fabricación. Este libro intenta ser un manual de referencia general para principiantes y experimentados en el uso de procesos con CVD.
Para ingenieros en ejercicio, tecnólogos de investigación y desarrollo, estudiantes de posgrado y pregrado avanzado.
Obra en idioma inglés.
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