000 | 04069nam a22007214a 4500 | ||
---|---|---|---|
001 | CUUTN000001 | ||
003 | AR-CuUTN | ||
005 | 20250521221550.0 | ||
007 | ta | ||
008 | 191210s2001 us addof 001 0 eng d | ||
020 | _a087170692X | ||
040 |
_aAR-CuUTN _bspa _cAR-CuUTN _eaacr2 _eisbd |
||
041 | 0 | _aeng | |
080 | 0 |
_a621.793/.795 _22000 |
|
245 | 0 | 0 |
_aChemical vapor deposition / _cedited by Jong-Hee Park, T. S. Sudarshan. |
250 | _a1a ed. | ||
260 |
_aUnited States of America : _bASM International, _c2001. |
||
300 |
_avii; 481 p. : _bil., gráf., fot., tablas ; _c26 cm |
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336 |
_2rdacontent _atexto _btxt |
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337 |
_2rdamedia _asin mediación _bn |
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338 |
_2rdacarrier _avolumen _bnc |
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490 | 0 |
_aSurface Engineering Series ; _vv. 2. |
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500 | _aContenido: p. v-vi. | ||
500 | _aÍndice temático: p. 465-480. | ||
500 | _aÍndice de autores: p. 481. | ||
504 | _aBibliografía al finalizar cada capítulo. | ||
505 | 0 | _aChap. 1. Introduction to chemical vapor deposition (CVD). | |
505 | 0 | _aCahp. 2. Basic principles of CVD Thermodynamics and kintecs. | |
505 | 0 | _aChap. 3. Stresses and mechanical stability of CVD Thin Films. | |
505 | 0 | _aChap. 4. Combustion chemical vapor deposition (CCVD). | |
505 | 0 | _aChap. 5. Polarized electrochemical vapor deposition. | |
505 | 0 | _aChap. 6. Chemical vapor infiltration: optimization of processing conditions. | |
505 | 0 | _aChap. 7. Metal-organic chemical vapor deposition of high dielectric (Ba, Sr) TiO3. Thin films for dynamic random access memory applications. | |
505 | 0 | _aChap. 8. Chemical vapor deposition of polymers: principles, materials, and applications. | |
505 | 0 | _aChap. 9. CVD of metals: the case of nickel. | |
505 | 0 | _aChap. 10. CVD Diamond, diamond-like carbon, and carbonitride coatings. | |
505 | 0 | _aChap. 11. CVD diamond films in tribological applications. | |
505 | 0 | _aChap. 12. CVD films for electrical insulation. | |
505 | 0 | _aChap. 13. CVD films for corrosion protection coatings. | |
505 | 0 | _aChap. 14. Heat treatment of CVD-coated tool steels. | |
520 | 3 | _aLa deposición química de vapores (CVD) se utiliza generalmente en la tecnología de procesamiento de materiales. La mayoría de las aplicaciones implica la aplicación de recubrimientos sólidos de película delgada a superficies, pero también se utiliza para producir materiales a granel y polvos de alta pureza, así como para fabricar compuestos. El propósito de este libro de tecnología de CVD es proveer información práctica de referencia, guías prácticas e información de aplicación sobre importantes tecnologías de ingeniería de superficies, para el diseño, desarrollo y fabricación. Este libro intenta ser un manual de referencia general para principiantes y experimentados en el uso de procesos con CVD. | |
521 | _aPara ingenieros en ejercicio, tecnólogos de investigación y desarrollo, estudiantes de posgrado y pregrado avanzado. | ||
546 | _aObra en idioma inglés. | ||
653 | 1 | _aIngeniería de superficies | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor-termodinámica | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor-cinética | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor-tensiones | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor por combustión | |
653 | 2 | _aInfiltración de vapor químico | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor de metal orgánico | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor de polímeros | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor de metales | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor de diamantes | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor para aplicaciones tribológicas | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor para aislante eléctrico | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor-protección corrosión | |
653 | 2 | _aDeposición química de vapor-tratamiento térmico de aceros | |
700 | 1 |
_96200 _aPark, Jong-Hee _d1951- _eeditor |
|
700 | 1 |
_97913 _aSudarshan, T. S. _d1955- _eeditor |
|
942 |
_cBK _2udc |
||
945 | _aSMPH | ||
999 |
_c3070 _d3070 |