000			02241nam a22006374a 4500
001			CUUTN000001
003			AR-CuUTN
005			20250520115956.0
007			ta
008			191210s2009 -usaaddf 001 0deng d
020			_a9781878068286
040			_aAR-CuUTN _bspa _cAR-CuUTN _eaacr2 _eisbd
041	0		_aeng
080	0		_a620.197:667.63 _22000
100	1		_aMattox, Donald M. _eautor _95398
245	1	0	_aEducation guides to vacuum coating processing / _cwritten by Donald M. Mattox.
260			_aAlbuquerque, Nwe México, U.S.A. : _bSociety of Vacuum Coaters, _cc2009.
300			_a222 p. : _bil., gráf., tablas ; _c28 cm
336			_2rdacontent _atexto _btxt
337			_2rdamedia _asin mediación _bn
338			_2rdacarrier _avolumen _bnc
500			_aTabla de contenidos: al comenzar el libro.
500			_aSobre el autor: en contratapa.
504			_aReferencias bibliográficas: al finalizar cada capítulo.
505	0		_aIntroduction.
505	0		_aMaterials science.
505	0		_aVacuum technology.
505	0		_aPlasma technology.
505	0		_aSurface preparation.
505	0		_aVacuum evaporation.
505	0		_aSputter deposition.
505	0		_aArc vapor deposition.
505	0		_aIon plating.
505	0		_aLow-pressure CVD and PECVD.
505	0		_aAtomistic film growth and resulting film properties.
505	0		_aPostdeposition processing.
505	0		_aSurface and film characterization.
505	0		_aApplications.
505	0		_aSafety.
520	3		_aEsta publicación contiene 109 guías individuales, independientes, de dos páginas sobre diferentes aspectos del equipo y la tecnología asociados con el procesamiento de recubrimiento al vacío por deposición física de vapor.
521			_aTécnicos.
546			_aEn inglés.
653	1		_aTratamiento de superficie
653	2		_aCiencia de materiales
653	2		_aRecubrimiento al vacío
653	2		_aPlasma
653	2		_aRecubrimiento PVD
653	2		_aDeposición catódica
653	2		_aPECVD -baja presión
653	2		_aCVD
653	2		_aProcesamiento al vacío-seguridad
653	2		_aDesgaste
653	2		_aDeposición atomística
942			_cBK _2udc
945			_aMaría Contard
999			_c7788 _d7788